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第1153章 帝国集团旗下研发出第一台商用光刻机（第2页）

帝国集团在香江科技城一家科技公司正式研发出一台可以商用的光刻机。

这意味着什么？

可想而知。

从八十年代初开始，杨铭在香江北部成立科技城，就是布局半导体产业链的，除了成立香江集成电路制造公司外。

像光刻机这些，杨铭也早已让人成立。

这些年，除了东洋，欧美，香江本地的人才加入外，还有这两年苏连方面的人才加入。

如今几年时间过去，第一台光刻机终于研发出来。

当然，现在的光刻机和未来三四十年后的光刻机相比，其实复杂程度还要简单太多了。

就国内方面来说，早在1965年，Z国科学院便研制出了65型接触式光刻机。

如果不考虑性能上的差距，M国第一台接触式光刻机是由GCA公司于1961年制造的，彼此间只差了4年。

彼时的Z国人憋着一股“超英赶美”的志气，从不服输。在这种信念的支撑下，Z国光刻机技术进入了一段蓬勃辉煌的独立自主发展期。

70年代初期，Z国科学院开始研究计算机辅助光刻掩模工艺；

1977年，我国成功研制GK-3型半自动光刻机。

1980年，箐华大学在第四代分步式投影光刻机技术研究上取得成功，光刻精度达3微米，接近国际主流水平。

1982年，中科院109厂研制出第一台KHA-75-1型光刻机，与世界尖端水平差距缩短到5年内。

1985年，国内新型分步式光刻机试验机通过验收，经专家鉴定，其性能逼近M国光刻机巨头GCA公司4800DSW型光刻机的水平。

值得一提的是，这是Z国第一台分步投影式光刻机，虽不像一些资料中描述的那般“领先世界”，但它却让国内在光刻机领域紧紧咬住了世界第一梯队的步伐，与顶端的差距最多只有七八年。

至此，Z国光刻机技术发展史已然抵达顶点，但谁又能想到，它竟也成了一个辉煌时代的落幕？

随着大开放的深入，Z国以积极的姿态融入世界，扑面而来的巨大机遇中也夹藏着许多“甜蜜的毒药”。

上世纪七八十年代，Z国和M国度过了一段“蜜月期”，大到先进武器，小到各种民用产品，只要钱到位都不再是触不可及的奢望。

西方国家也表现得相当“慷慨”，连光刻机这样的尖端产品也愿意出售。

可以说，西方对国内的“慷慨”，究竟是一时的好意还是险恶的阴谋，其中的利害实在意味深长。

另一方面，国内光刻机发展恰巧遭遇瓶颈，被卡在193nm光源已有小二十年。

既然能够轻松获取，为什么还要费劲研发呢？彼时的Z国远不算富裕，两相对比，“买办思想”很快就占据了主流。

逆水行舟不进则退，Z国与第一梯队的距离越来越大，很快便彻底脱节。

其实在这个领域，相比国内与美、日、欧的差距，第一梯队内部的斗争要惨烈且残酷得多。

光刻机的原理，其实并不复杂，甚至在发在初期，其复杂程度甚至不如照相机；一些对光刻机有需求的企业并不向专业厂商购买，而是买来零件自己组装，如英特尔。

而最早的光刻机发展潮流，是由M国人领导的。

1961年，M国GCA公司研制出第一台接触式光刻机，成为光刻机产业的巨头。

1967年，在M国空军的支持下，珀金埃尔默仪器公司推出世界首台投影式光刻机Micralign100，一夜间将芯片良率提升了7倍。

1978年，GCA公司又推出步进式光刻机DSW4800，分辨率可达1微米。

虽然该型光刻机的单价高达45万美元，但各大企业仍趋之若鹜，根本不愁卖。至此，GCA公司进入全盛时期，在其引领下，M国光刻机产业如日中天，殊不知养虎为患，由M国人打造的“产业盛世”已经进入了倒计时。

进入70年代，各大半导体厂商越来越多地选择东洋企业以配套光刻机的光学镜头，如尼康、佳能等。

在这个过程中，东洋企业将本不复杂的光刻机技术摸得一清二楚，并开始了自己的尝试。

随着光刻技术的不断进步，芯片制程越来越小，光刻机技术对光学系统的依赖也越来越重。在这个过程中，以光学元件见长的东洋企业逐渐崛起，飞快地从M国人手中夺走市场份额。GCA公司没落并被收购，最终，东洋人成为光刻机领域新的领头羊。

历史上，1984年，正当国内对独立研发光刻机的追求逐渐被“买办思想”蚕食殆尽时，荷兰飞利浦公司在总部大楼前的空地上临时搭建了一排简易厂房，作为一家拥有31名员工的新成立的合资公司的办公场所，这个不起眼的小公司，便是后来掌握超过六成光刻机市场、地位无可撼动的荷兰阿斯麦（ASML）公司，若想要生产10nm以下芯片，只能向该公司购买尖端光刻机，除此之外没有第二个选择；这样的光刻机，一台的售价为1.2亿美元，有钱还不一定能买到。

甚至，后来曾向阿斯麦公司订购一台先进光刻机，连定金都交了，谁料好巧不巧，荷兰费尔德霍芬一座工业园发生火灾，殃及阿斯麦公司的一家重要供应商，结果很多年后，国内也没收到货。

2007年，阿斯麦公司占据的市场份额首次超过尼康，世界头把交椅正式易主。

（本章完）

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